NAMs新方法学前沿

药物暴露与装置质控方法

查阅药物暴露与装置质控相关方法的细胞与材料、测量指标、验证条件和原始资料。

方法条目

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共 4 个方法 · 显示 1–4 个

药物暴露与装置质控计算模型

PDMS 结合测量与微流控暴露质量评价

用材料结合与释放测量,为微流控药物暴露模型提供限定参数。

测量指标
溶液物质损失、转入新溶剂后的释放、经验结合比例与时间过程、限定结构下的模型暴露预测
研究设计
实验条件比较
药物暴露与装置质控计算模型

无细胞器官芯片的计算流场与颗粒追踪验证

用高速颗粒追踪与计算流体模型比较路径和速度,核对芯片流动。

测量指标
入口/分叉颗粒路径、培养腔速度剖面、网格收敛指数、模型间速度比较
研究设计
实验条件比较
药物暴露与装置质控器官芯片

集成四点阻抗的气道与肠道芯片屏障评价

以固定电极阻抗谱分开 TEER 和电容,评价上皮形成与可逆连接破坏。

测量指标
跨上皮电阻Ω、细胞层电容、阻抗谱拟合、连接破坏及洗脱恢复
研究设计
实验条件比较
药物暴露与装置质控人源细胞

微流控塑料的化合物吸附与 HepG2 相容性比较

原作者摘要报告,只有紫外–臭氧处理的 PC 和 COC 同时满足吸附与细胞相容性要求。

测量指标
4 周水接触角变化、测试化合物及代谢物的吸附、HepG2 细胞培养相容性
研究设计
实验条件比较

方法比较

按具体版本、测试药物与用途比较;不同研究的性能数字须结合各自条件阅读。— 表示当前条目未收录该信息。

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